具槽石斛，莖通常直立，肉質，扁棒狀，下部收狹為細圓柱形，不分枝，具縱條紋和數個節。葉紙質，數枚，互生于莖的近頂端，常斜舉，長圓形。總狀花序從當年生具葉的莖上端發出，長8-15厘米，下垂，密生少數至多數花；

花質地薄，白天張開，晚間閉合，奶黃色；花瓣近倒卵形，長2.4厘米，寬1.1厘米，先端銳尖，基部收狹為短爪，具5條脈；唇瓣的顏色較深，呈橘黃色。

近基部兩側各具1個褐色斑塊，近圓形。花期6月。具槽石斛生于海拔700-800米的密林中樹干上。產中國云南南部，錫金、印度東北部、緬甸、泰國、老撾也有分布。

形態特征：具槽石斛為總狀花序從當年生具葉的莖上端發出，長8-15厘米，下垂，密生少數至多數花；花序柄基部有3-4枚覆瓦狀的鞘；花苞片很小，狹卵狀披針形，長約5毫米；

花梗和子房長約2.5厘米；花質地薄，白天張開，晚間閉合，奶黃色；中萼片長圓形，長約2.5厘米，寬9毫米，先端近銳尖，具5-6條脈，側萼片與中萼片近等大；萼囊圓錐形，寬而鈍，長約5毫米。

花瓣近倒卵形，長2.4厘米，寬1.1厘米，先端銳尖，基部收狹為短爪，具5條脈；唇瓣的顏色較深，呈橘黃色，近基部兩側各具1個褐色斑塊，近圓形，長、寬約2厘米，兩側圍抱蕊柱而使整個唇瓣呈兜狀。

先端微凹，基部具短爪，唇盤上面的前半部密被短柔毛，邊緣具睫狀毛；蕊柱長約5毫米；藥帽前后壓扁的半球形或圓錐形，頂端稍凹，光滑，前端邊緣多少不整齊。具槽石斛的花期6月。

生長習性：具槽石斛是一種喜陰涼的多年生草本植物，喜在溫暖、潮濕、以年降雨量1000毫米以上、半陰半陽的環境，1月平均氣溫高于8℃的亞熱帶深山老林中生長為佳，適宜生長溫度為15到28度，適宜生長空氣濕度為60%以上。

對土肥要求不甚嚴格，野生多在疏松且厚的樹皮或樹干上生長，有的也生長于石縫中。屬氣生根系，主要要求根部通透性好，采用的基質最好能通風透氣濾水。

在適宜的溫度濕度下，生長速度快，生存能力非常強。每年春末夏初，二年生莖上部節上抽出花序，開花后從莖基長出新芽發育成莖，秋冬季節進入休眠期。

具槽石斛的養殖方法

選地：選地、整地 根據其生長習性，石斛類栽培地宜選半陰半陽的環境，空氣濕度在80%以上，冬季氣溫在0℃以上地區。人工可控環境也可，樹種應以黃桷樹、梨樹、樟樹等且應樹皮厚有縱溝、含水多、枝葉茂、樹干粗大的活樹，石塊地也應在陰涼、濕潤地區，石塊上應有苔蘚生長及表面有少量腐殖質。

選盆：通常選用四壁多孔的塑料或陶瓷花盆，用碳根、泥炭蘚、樹皮塊、木炭塊等作盆栽材料。根據蘭苗的大小，選擇不同規格的花盆，但不宜用大盆栽小苗口上述栽好材料在使用前。

必需在清水中浸泡1天以上備用。盆底要多墊大瓦片或碎磚塊，深度至盆底約1/3處，然后將蘭苗放于盆中央，并在一旁插一細竹竿以固定蘭苗，再填入其他栽培材料，注意根與根之間用材料隔開。

澆水：栽植初期先放在陰涼陰涼并有散射光處，僅向葉面上噴些水，勿向盆內澆水。約10-15天后，待萌發出新根后兩移至陰棚下養護。生長季節澆水要干濕相間保持適度干薄餅肥水。

生長旺盛期樹每天澆水一次，干旱季節和炎夏還需經常在花盆四周地面上噴水，以保持較高的空氣濕度，并要注意通風良好。冬季休眠期應少澆水。后期空氣濕度過小要經常澆水保濕，可用噴霧器以噴霧的形式澆水。

溫度：剛移栽的組培苗對水分很敏感，缺水則生長緩慢、干枯、成活率低。而噴霧過多則漬水爛根，溫度高、濕度大時還易引發軟腐病大規模發生。移栽后一周內（幼苗尚未發新根）空氣濕度宜保持在90%左右。

一周后，植株開始發新根，空氣濕度可保持在70%-80%。種植畦干濕交潛有利于發根長芽。忌強光直射，春秋兩季早上可見陽光，冬季可置光照充足處，其他時間置于具有明亮散射光而又通風的地方。越冬溫度保持在8-10℃即可。

施肥：由于石斛類為氣生根，因此要噴施適宜的葉面肥作為營養液，以供給植株充足的養分，利早發根長芽。葉面肥可以選擇硝酸鉀、磷酸二氫鉀、腐植酸類等，以及進口三元復合肥和稀釋的MS培養基等。

一般移栽后一周，植株新根發生后開始噴施千分之一的硝酸鉀或磷酸二氫鉀，7-10天噴一次，連續噴3次。長出新芽后每隔10-15天噴3‰的三元復合肥等。

生長地貧瘠應注意追肥，第一次在清明前后，以氮肥混合豬牛糞及河泥為主。第二次在立冬前后用花生鼓、菜籽餅、過磷酸鈣等加入河泥調勻糊在根部，此外尚可根外追肥。

修枝：石斛生長地的都閉度在60%左右，因此要經常對附生樹進行整枝修剪，以免過于蔭蔽或郁閉度不夠。每年春天前發新整時，結合采收老莖將叢內的枯莖剪除，并除去病莖、弱莖以及病者根，栽種6-8年后視叢蔸生長情況翻蔸重新分枝繁殖。